蘋果正在為下一代iPhone 測試新的抗反射光學塗層技術,減少炫光和“鬼影”

蘋果正在為下一代iPhone 測試新的抗反射光學塗層技術,減少炫光和“鬼影”。消息來源yeux1122 在其Naver 部落格上爆料,表示從蘋果供應鏈獲悉,該公司正在積極測試一種全新的抗反射光學塗層技術。這項技術可望大幅減少鏡頭炫光和鬼影等攝影偽影,從而大幅提升照片品質。

供應鏈消息透露,蘋果正在考慮在iPhone 相機鏡頭的製造流程中引入先進的原子層沉積(ALD)設備。 ALD 是一種基於連續使用氣相化學製程的薄膜沉積技術,將物質以單原子膜形式逐層鍍在基板表面的方法。 ALD 是一種真正的奈米技術,以精確控制方式實現奈米級的超薄薄膜沉積。

蘋果正在為下一代iPhone 測試新的抗反射光學塗層技術,減少炫光和“鬼影”

具體到相機鏡頭方面,ALD 製程主要被用於噴塗抗反射塗層。當太陽等強光源直接照射鏡頭時,最終拍攝的影像中可能會出現條紋和光暈等失真現象,而ALD 技術能夠有效減少這些偽影,提升影像品質。同時,ALD 應用材質還能防止環境對相機鏡頭系統造成損害,確保感光元件能高效捕捉光線。

蘋果正在為下一代iPhone 測試新的抗反射光學塗層技術,減少炫光和“鬼影”

博文進一步指出,蘋果計劃將該工藝應用於iPhone 的Pro 機型中,有可能會出現在即將發布的iPhone 16 Pro 系列或明年的iPhone 17 Pro 系列上。

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